年度 2018
計畫類別 企業產學計畫(含公營及私人企業)
計畫名稱 高功率脈衝磁控濺鍍(HIPIMS)系統濺鍍薄膜之製程參數控制
類別 主持人
起迄日期 2018.01 ~ 2019.02