年度 2015
計畫類別 企業產學計畫(含公營及私人企業)
計畫名稱 以高功率脈衝磁控濺鍍(HIPIMS)系統濺鍍氮化鈦(TiN)薄膜之分析
類別 主持人
起迄日期 2015.02 ~ 2016.01